停留時(shí)間通常是指從流體進(jìn)入反應器時(shí)開(kāi)始,到其離開(kāi)反應器為止的這一段時(shí)間。顯然對流動(dòng)反應器而言,停留時(shí)間不像間歇反應器那樣是同一個(gè)值,而是存在著(zhù)一個(gè)停留時(shí)間分布。造成這一現象的主要原因是流體在反應器內流速分布得不均勻,流體的擴散,以及反應器內的死區等。
停留時(shí)間分布的測定廣泛應用于化學(xué)反應工程及化工分離過(guò)程。是反應器設計和實(shí)際操作所必不可少的理論依據。